ALD 技术显著提升发光器件效率 发表于 2013-04-18 作者 H Zeng 2013-04-18 浏览 754 次 0 中国科学院微电子研究所将先进的原子层沉积技术（Atomic Layer Deposition，ALD）应用于高光效半导体发光器件的研究取得显著进展。 继续阅读全文 →